主要用途:
半導(dǎo)體外延爐主要用于化合物半導(dǎo)體器件制造過程中外延膜的液相外延生長,是光電子器件研制、生產(chǎn)中的關(guān)鍵工藝裝備。
技術(shù)特點:
自動化程度高,除裝片、取片外,整個工藝過程均由工業(yè)計算機(jī)控制自動完成。
工藝操作可由機(jī)械手完成。
機(jī)械手運(yùn)動定位精度小于0.1mm。
爐溫穩(wěn)定、重復(fù)性好,恒溫區(qū)精度優(yōu)于±0.5℃,降溫速率在0.1~6℃/min范圍內(nèi)可調(diào)節(jié),降溫過程中恒溫區(qū)平坦度佳,斜率線性度好。
冷卻功能完善。
保護(hù)功能周全可靠。
設(shè)備可靠性高,工藝重復(fù)性好。